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एक ध्रुवीकरण के साथ vr लेंस में तनाव को पहचानना

लेंस ऑप्टिकल इमेजिंग सिस्टम का एक महत्वपूर्ण घटक है। एक उदाहरण के रूप में VR इमेजिंग प्रणाली को लेना, लेंस में अवशिष्ट तनाव निम्नलिखित दो नकारात्मक प्रभाव होंगे।


ऑप्टिकल प्रदर्शन पर लेंस के तनाव का प्रभाव

लेंस का तनाव ऑप्टिकल विरूपण हो सकता है, जो लेंस के आकार और सतह सटीकता को बदलता है, जिससे ऑप्टिकल उपकरणों की इमेजिंग गुणवत्ता को प्रभावित करता है। तनाव लेंस के झुकने और विरूपण का कारण बनता है, जिससे प्रकाश को ध्यान केंद्रित करने में असमर्थ हो जाता है, जिससे प्रकाश को ध्यान केंद्रित करने में असमर्थ हो जाता है। इसके अलावा, लेंस का तनाव ऑप्टिकल उपकरण के फैलाव प्रभाव का कारण भी हो सकता है, जो लेंस में विभिन्न तरंग दैर्ध्य के साथ प्रकाश की विभिन्न संचरण गति को आगे बढ़ा सकता है, जिसके परिणामस्वरूप क्रोमैटिक एबेशंस की पीढ़ी होती है।


ऑप्टिकल स्थिरता पर लेंस के तनाव का प्रभाव

लेंस का तनाव लेंस के आकार और आकार में परिवर्तन हो सकता है, जो ऑप्टिकल डिवाइस की स्थिरता को प्रभावित कर सकता है। तनाव लेंस को विकृत करेगा, जिससे लेंस की सतह पर ऑप्टिकल प्रतिबिंब प्रभाव बदल जाएगा, जिससे ऑप्टिकल पथ के संचरण और प्रतिबिंब को प्रभावित करता है। तनाव लेंस सामग्री के माइक्रोस्ट्रक्चर में भी बदलाव का कारण होगा, जिससे लेंस के अपवर्तक सूचकांक और फैलाव गुणों में परिवर्तन होता है, जिससे प्रकाश और इमेजिंग प्रभावों के प्रसार को प्रभावित करता है।


लेन्स तनाव को कैसे और नियंत्रित करें?

आमतौर पर उपयोग किए जाने वाले लेंस तनाव माप विधियों में ऑप्टिकल, यांत्रिक और थर्मल तरीके शामिल हैं। ऑप्टिकल विधि चरण अंतर (ऑप्टिकल पथ अंतर, ऑप्टिकल रिडेरेशन) को मापने के लिए फोटोइलास्टिसिटी के सिद्धांत का उपयोग करता है ताकि तनाव के अस्तित्व और परिमाण को अप्रत्यक्ष रूप से प्रतिबिंबित किया जा सके। केपूरी तरह से स्वचालित ध्रुवीकरणसूझाऊ ptc ऑप्टिकल उपकरणों द्वारा लॉन्च किया गया लेंस निर्माताओं को जल्दी से और लेंस के अंदर तनाव के कारण होने वाले ऑप्टिकल रेटिडरेशन को सटीक रूप से मापने में मदद कर सकते हैं।


नीचे दिए गए आंकड़ों में, बढ़ते होने से पहले और बाद में लेंस का तनाव प्रदर्शित होता है।


Optical retardation before mounting (max: 6.213nm, ave: 1.882nm)

बढ़ते होने से पहले ऑप्टिकल मंदता (अधिकतम: 6.213nm, ev: 1.882nm)


optical retardation after mounting (max: 15.116nm, ave: 8.477nm)

बढ़ते होने के बाद ऑप्टिकल मंदता (अधिकतम: 15.116nm, ev: 8.477nm)


यह ध्यान रखना मुश्किल नहीं है कि बढ़ते प्रक्रिया के दौरान अतिरिक्त विधानसभा तनाव पैदा होता है। आशीर्वाद शक्ति, समर्थन विधियों और स्थापना प्रक्रिया को अनुकूलित करके, विधानसभा तनाव को काफी हद तक कम किया जा सकता है।

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